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薄欠掺杂铜氧化物薄膜中依赖掺杂的临界库珀对动量

超导电性 2015-06-22 v1

摘要

我们应用最近开发的低场技术,以感应方式测量 Y1x_{1-x}Cax_{x}Ba2_{2}Cu3_{3}O7δ_{7-\delta} 和 Bi2_{2}Sr2_{2}CaCu2_{2}O8+δ_{8+\delta} 薄欠掺杂薄膜中的临界对动量 pcp_c,这些薄膜反映了广泛的空穴掺杂范围。我们观察到 pc/ξp_c \propto \hbar/\xiTcT_c 成比例,因此在我们的二维铜氧化物薄膜中与超流密度 ns(T0)n_s(T\rightarrow0) 成比例。这一关系曾由具有\textit{与掺杂无关}超导能隙的铜氧化物普适模型著名地预测出来,但由于理论中未包含的场致现象,尚未通过相干长度 ξ\xi 的高场测量观察到。

关键词

引用

@article{arxiv.1407.6337,
  title  = {Doping-dependent critical Cooper-pair momentum in thin, underdoped cuprate films},
  author = {John Draskovic and Stanley Steers and Thomas McJunkin and Adam Ahmed and Thomas R. Lemberger},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1407.6337},
  year   = {2015}
}