分子在石墨烯和硅烯上的解离吸附
化学物理
2014-11-27 v1 介观与纳米尺度物理
材料科学
计算物理
摘要
我们研究了 H、O、CO、HO 和 OH 分子与石墨烯和硅烯空位缺陷的相互作用。裸空位周围的原子发生重构，形成了特定的化学活性位点。虽然 H、O 和 CO 在原始石墨烯和硅烯上保持完整，但当它们置于这些化学活性位点附近时可能发生解离，并成为氢化和氧化的成核中心。解离分子的组成原子饱和缺陷位点的悬空键，导致电子和磁性性质发生显著改变。我们分析了解离机制，揭示了周围宿主原子与解离分子协同作用以降低解离所需能垒的过程。HO 和 OH 的解离受到高能垒的阻碍。我们的研究表明，通过创建单空位网格可以对石墨烯和硅烯进行功能化，使特定分子在此处解离，而其他分子则被钉扎。
引用
@article{arxiv.1410.8730,
title = {Dissociative Adsorption of Molecules on Graphene and Silicene},
author = {H. Hakan Gurel and V. Ongun Ozcelik and S. Ciraci},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.8730},
year = {2014}
}
备注
Published in J. Phys. Chem. C