采用电沉积法与 alpha 能谱法在铝基底上制备钍涂层

采用电沉积方法在直径 22 mm 的圆形区域内于铝基底上制备了面密度为 110 至 130 $\mu g/cm^2$ 的钍薄膜。所制作的电沉积系统由三部分组成：铂网阳极、盛放钍溶液的圆柱形容器，以及圆形铝板阴极。铝板水平安装，铂网连接至垂直安装且垂直于铝板平面的电动机轴向杆。电解液通过将已知重量的硝酸钍粉末溶于 0.8 M HNO3 与异丙醇中配制。系统在恒压（CV）或恒流（CC）模式下运行。在阳极与阴极间的电场作用下，钍离子沉积于阴极上的铝基底。在 320、360 和 400 V 的 CV 模式及 15 mA 的 CC 模式下，铝基底圆形区域上形成了钍膜。钍涂层的面密度通过探测发射的 alpha 粒子测得。改变沉积时间从 10 到 60 min，钍的面密度在 80 至 130 $\mu g/cm^2$ 间变化。比较了 CV 与 CC 模式的结果，并讨论了不同电场模式下测得面密度的径向依赖关系。所制备的钍涂层将用于粒子探测器、快中子转换器、钍裂变实验靶等的内部研发及其他用途。