模板辅助电沉积银纳米线的生长
材料科学
2022-02-23 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
模板辅助合成是一种简便的制备多种一维纳米结构的方法。在各种纳米多孔模板中，阳极氧化铝（AAO）最为常用。本工作中，研究了银在 AAO 模板中通过电沉积生长纳米线的动力学。AAO 模板采用标准两步阳极氧化工艺制备。所制模板的几何特征，如孔径（55 nm）、孔间距（115 nm）、壁厚（27 nm）、孔隙率（19.87%）和孔密度，通过扫描电子显微镜获得。为利于均匀金属沉积，通过阻挡层减薄工艺和化学刻蚀对孔底氧化层进行改性。随后进行扩孔，将孔径增大至 65 nm 以促进沉积。孔间距增至 119.8 nm，壁厚几乎保持恒定在 27.7 nm。银采用常规恒电流模式电沉积。系统研究了沉积时间、电流、溶液浓度和温度等沉积参数。每次沉积均根据 SEM 图像测得的孔隙填充分数和纳米线平均长度计算工艺效率。在参数范围内观察到生长随时间的线性关系。实验表明，减小电流、升高沉积温度以及延长沉积时间可增加纳米线的平均长度。电沉积生长金属纳米线的方法可推广至其他纯金属及合金体系。
引用
@article{arxiv.2201.04947,
title = {Template-assisted growth of silver nanowires by electrodeposition},
author = {Kumaresh K R and Lakshman Neelakantan and Parasuraman Swaminathan},
journal= {arXiv preprint arXiv:2201.04947},
year = {2022}
}
备注
11 pages, 6 figures, and 3 tables