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单层 MoS$_2$ 边缘应力的密度泛函理论计算

材料科学 2013-10-25 v1 计算物理

摘要

我们利用密度泛函理论计算了单层 MoS2_{2} 纳米带的边缘能和边缘应力。与先前关于石墨烯的报道相反,对于扶手椅型和锯齿型两种手性,发现 MoS2_{2} 纳米带的边缘应力均为拉应力,表明其最低能量构型处于压缩状态,此时 Mo-S 键长短于体相周期性单层 MoS2_{2} 中的键长。研究发现,当纳米带宽度大于约 1 nm 时,两种手性的边缘能和边缘应力均趋于收敛。

关键词

引用

@article{arxiv.1310.6693,
  title  = {Density functional theory calculation of edge stresses in monolayer MoS$_2$},
  author = {Zenan Qi and Penghui Cao and Harold S. Park},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1310.6693},
  year   = {2013}
}

备注

10 pages, 4 figures