D-膜启发的费米子质量纹理
高能物理 - 理论
2010-01-22 v1 高能物理 - 唯象学
数学物理
math.MP
摘要
本文在一类具有标准模型规范对称性的相交 D-膜构型中,分析了夸克质量层级和卡比博-小林-益川混合问题。考虑额外阿贝尔对称性和反常消除条件所施加的约束,构建了相关的质量矩阵。讨论了包括微扰和非微扰效应在内的可能的质量生成机制,并发现了以各种贡献来源尺度层级为特征的质量纹理的具体模式。论证了质量矩阵的乔列斯基分解是确定这些费米子质量模式性质的最合适方法,而相关的三角质量矩阵形式为所有现象学上等价的对称和非对称质量矩阵提供了统一描述。推导出了质量矩阵乔列斯基三角形式的优雅解析公式,其中矩阵元表示为质量本征态和对角化变换矩阵元的简单函数。最后,受多个 D-膜和 F-理论构造中由于内空间几何可能导致零汤川质量项的可能性启发,我们在所提出的新背景下详细分析了所有可能的纹理零质量矩阵。将这些新的纹理零与文献中已有的进行了比较,并详细研究了 D-膜启发的实例。
引用
@article{arxiv.0909.4701,
title = {D-brane Inspired Fermion Mass Textures},
author = {G. K. Leontaris and N. D. Vlachos},
journal= {arXiv preprint arXiv:0909.4701},
year = {2010}
}
备注
58 pages, 7 figures