CSAR 62 作为负性抗蚀剂在 4 K 至室温范围内的高对比度电子束光刻应用
材料科学
2016-11-23 v1
摘要
本文研究了电子束敏感抗蚀剂 CSAR 62 在其负性工作模式下的温度依赖性。写入温度覆盖了从 4 K 到室温的宽泛范围，重点关注液氦温区。低温研究的重要性源于将 CSAR 62 应用于通过原位电子束光刻进行确定性纳米光子器件加工。在低温下，CSAR 62 展现出 10.5 的高对比度和 49 nm 的分辨率。其抗刻蚀稳定性几乎与温度无关，并且发现 CSAR 62 不会出现剥离现象，而剥离现象限制了标准电子束抗蚀剂 PMMA 的低温应用。因此，CSAR 62 是一种极具前景的负性抗蚀剂，适用于低温下高质量纳米结构的原位电子束光刻。
引用
@article{arxiv.1611.07266,
title = {CSAR 62 as negative-tone resist for high-contrast e-beam lithography at temperatures between 4 K and room temperature},
author = {Arsenty Kaganskiy and Tobias Heuser and Ronny Schmidt and Sven Rodt and Stephan Reitzenstein},
journal= {arXiv preprint arXiv:1611.07266},
year = {2016}
}