通过在 20–1000 原子尺度上重构材料连续调控折射率：改进抗反射涂层设计
介观与纳米尺度物理
2020-04-08 v1 光学
摘要
我们展示了利用嵌段共聚物模板，通过在 20–1000 原子尺度上结构化材料，以简单的一锅法合成在宽范围内调控功能氧化物折射率的能力。随后将所提方法与基于遗传算法的优化相结合，探索其在抗反射涂层设计中的应用。融合这些技术使得能够实现用于硅的最小双层抗反射堆叠，在 120° 角度范围内相对于标称值 38% 的宽带反射率仅为 3%，并通过制备及随后的光学测量进行了验证。
引用
@article{arxiv.2004.03361,
title = {Continuously tuning the refractive indices by restructuring materials on the 20-1000 atoms scale: improving anti-reflection coating designs},
author = {Jacob Poole and Aidong Yan and Paul Ohodnicki and Kevin Chen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2004.03361},
year = {2020}
}
备注
10 pages, 5 figures, 2 tables, and a couple of equations. arXiv admin note: substantial text overlap with arXiv:1504.08346