混合离子电子半导体界面的化学扩散及其与 La2NiO4+d 外延薄膜的比较
材料科学
2013-07-26 v1
摘要
本文描述了一个用标准半导体物理学术语来描述混合离子电子导体 (MIEC) 的简单模型。该模型有助于理解同时传导电子和离子点缺陷的材料之间理想异质结处的缺陷平衡和电荷输运，并探讨电子或离子电流的整流效应如何影响极化下界面处的化学扩散和电压。我们发现，当考虑到薄膜与衬底之间可能的氧交换时，该模型与在 NdGaO3 (110) 衬底上外延生长的 La2NiO4+d 薄膜的电导率弛豫实验测量结果在定性上吻合良好。我们讨论了该模型对于理解氧化物薄膜异质结构在高温和不同氧分压下暴露时的空间电荷层形成和化学扩散的意义。
引用
@article{arxiv.1307.6753,
title = {Chemical Diffusion at Mixed Ionic Electronic Semiconductor Interfaces and comparison with La2NiO4+d epitaxial thin films},
author = {J. Roqueta and A. Apostolidis and J. Chaigneau and R. Moreno and J. Zapata and M. Burriel and J. Santiso},
journal= {arXiv preprint arXiv:1307.6753},
year = {2013}
}