实现 ASTRI 迷你阵列相机瓦片所有像素同时绝对 PDE 测量的表征方法
天体物理仪器与方法
2020-08-26 v1 高能天体物理现象
高能物理 - 实验
仪器与探测器
摘要
近期，意大利国家天体物理研究所 (INAF) 与滨松光子 (Hamamatsu Photonics) 签订合同，采购数百个硅光电倍增管 (SiPM) 瓦片，以用于 ASTRI 迷你阵列 (MA) 项目建造 10 台相机，每台含 37 个瓦片。每个瓦片由 8x8 个 7x7 mm²、微元尺寸 75um 的像素组成。为检验所交付瓦片的质量，我们研究了一套复杂而精确的测试方案。能够同时分析尽可能多的像素变得至关重要。暗计数率 (DCR) 随过压及随温度的变化、以及光学串扰 (OCT) 随过压的变化，因在暗条件下进行，可对所有像素轻松同时测量。相反，瓦片所有像素的光子探测效率 (PDE) 同时测量不易实现，需要恰当的光学装置。同时测量具有加快整体流程并实现所有瓦片像素 PDE 快速比较的优势。本文描述了保障精确绝对 PDE 测量的预备步骤，以及探究电子学获取同时 PDE 测量能力的工作，并证明了使用经校准的 SiPM 作为参考探测器代替经校准光电二极管的可能性。文中还描述了实现瓦片四个中心像素精确绝对 PDE 的方法。
引用
@article{arxiv.1912.07543,
title = {Characterization method to achieve simultaneous absolute PDE measurements of all pixels of an ASTRI Mini-Array camera tile},
author = {G. Bonanno and G. Romeo and G. Occhipinti and M. C. Timpanaro and A. Grillo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1912.07543},
year = {2020}
}
备注
arXiv admin note: text overlap with arXiv:1806.00703