不同衬底上 La$_{1-x}$Sr$_x$CoO$_3$ 薄膜的沟道研究
材料科学
2014-03-07 v1
摘要
钴氧化物系统 LaCoO 及其 Sr 掺杂子化合物因其迷人的磁性和电子特性而被深入研究了几十年。在不同衬底上制备薄 LaSrCoO (LSCO) 薄膜使得可以利用一种新型扰动进行研究，因为薄膜受到依赖于衬底的外延应变。通过为薄膜生长选择合适的衬底，不仅可以施加压缩应变，还可以施加拉伸应变。这对基本物理性质的影响是巨大的：虽然压缩薄膜像块体材料一样是金属性的，但处于拉伸应变下的薄膜则变为绝缘体。本工作的目标是利用 RBS/沟道方法，确定通过脉冲激光沉积在 LaAlO 和 SrTiO 衬底上制备的 LSCO 薄膜中的应变张量。除了样品的成分和缺陷结构外，还确定了应变张量的深度依赖性、晶胞参数以及晶胞体积。在两种衬底上均发现了应变晶胞参数的非对称行为。这种非对称性在生长于 LaAlO 上的 LSCO 薄膜中较弱，而在 SrTiO 衬底上较强。应变在界面处更为有效，而在靠近表面处可观察到一些弛豫。
引用
@article{arxiv.1403.1439,
title = {Channelling study of La$_{1-x}$Sr$_x$CoO$_3$ films on different substrates},
author = {E. Szilágyi and E. Kótai and D. Rata and Z. Németh and G. Vankó},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.1439},
year = {2014}
}