超越100 nm分辨率的3D激光光刻：后处理方案
应用物理
2018-07-24 v1
摘要
激光聚合已成为一种直写技术，可制造具有微米级分辨率的复杂 3D 结构。该技术在广泛应用领域中提供快速原型制造能力，但为满足对 3D 纳米结构日益增长的兴趣，需将分辨率极限推至 100 nm 基准之上，这在实际实现中具有挑战性。作为实现该目标的可能途径，本文提出了一种激光聚合结构的后处理方案。通过结合各向同性等离子体刻蚀和热解，实现了对结构单元横截面尺寸的精确控制以及整个 3D 结构总体尺寸的调控。可获得的最小特征尺寸主要受聚合抗蚀剂的机械性能和 3D 结构几何形状的限制。因此，所展示的后处理步骤为探索纳米尺度自由形态 3D 结构开辟了新途径。
引用
@article{arxiv.1807.08462,
title = {Beyond 100 nm Resolution in 3D Laser Lithography: Post Processing Solutions},
author = {G. Seniutinas and A. Weber and C. Padeste and I. Sakellari and M. Farsari and C. David},
journal= {arXiv preprint arXiv:1807.08462},
year = {2018}
}