束流屏相关问题
加速器物理
2011-08-09 v1
摘要
在高能LHC（HE-LHC）中，目前设想的束流能量约为16.5 TeV。本文讨论了使用20 T二极磁体替代8.33 T磁体所引发的束流屏问题，特别关注磁致电阻和反常趋肤效应这两种机制，并假设采用名义机器和束流参数。磁致电阻效应总是导致材料电阻率增加（因为在横向磁场存在下，平均自由程变小）。至于反常趋肤效应，金属在低温和高频下表面电阻的反常增加归因于传导电子的长平均自由程：当趋肤深度远小于平均自由程时，只有一小部分几乎平行于金属表面运动的传导电子能有效承载电流，经典理论因此失效。
引用
@article{arxiv.1108.1643,
title = {Beam screen issues},
author = {E. Métral},
journal= {arXiv preprint arXiv:1108.1643},
year = {2011}
}
备注
7 pages, contribution to the EuCARD-AccNet-EuroLumi Workshop: The High-Energy Large Hadron Collider, Malta, 14 -- 16 Oct 2010; CERN Yellow Report CERN-2011-003, pp. 83-89