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MgB$_2$ 中带填充与跨带散射效应:C 与 Al 掺杂的比较

超导电性 2007-05-23 v1 材料科学

摘要

我们基于能带结构计算和 Eliashberg 理论,认为 observed Al 和 C 掺杂 MgB2_2 样品中 TcT_c 降低主要是由于 Al 和 C 引入的电子掺杂导致的带填充效应所致。通过对电子掺杂下态密度函数变化所引起的电子-声子耦合常数 λ\lambda 的简单缩放,即可捕捉实验所观察到的行为。进一步,我们也解释了长期以来的开放问题,即实验观察到 nearly constant π\pi 间隙随掺杂变化的现象:通过带填充效应与跨带散射效应的相互抵消来解释。两种效应共同作用产生 nearly constant π\pi 间隙,并将两个间隙的合并点位于更高的掺杂浓度处,从而解决了仅考虑跨带散射的理论预测与实验结果之间的矛盾。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0411667,
  title  = {Band filling and interband scattering effects in MgB$_2$: C vs Al doping},
  author = {Jens Kortus and Oleg V. Dolgov and Reinhard K. Kremer and Alexander A. Golubov},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0411667},
  year   = {2007}
}

备注

accepted by PRL