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通过FeCl$_3$插层逼近石墨烯材料中的磁有序

介观与纳米尺度物理 2015-06-17 v1

摘要

我们展示了将大面积(1 cm2^2)外延少层石墨烯(生长在4H-SiC上)成功插层FeCl3_3。插层后,该系统的电阻率在室温下从平均值200 Ω/sq\approx 200 \ \Omega/sq降至16 Ω/sq\approx 16 \ \Omega/sq。磁电导显示出弱局域化特征,其温度依赖性典型于石墨烯Dirac费米子,表明FeCl3_3插层结构中的每个碳层解耦为平行空穴气。相位相干长度(在280 mK时约1.2μ1.2 \mum)仅在高于插层层二维磁有序的温度时迅速减小,而在低于FeCl3_3分子平面间反铁磁有序的温度时趋于饱和,从而为石墨烯极端二维极限中的磁有序提供了首个证据。

关键词

引用

@article{arxiv.1506.04959,
  title  = {Approaching magnetic ordering in graphene materials by FeCl$_3$ intercalation},
  author = {T. H. Bointon and I. Khrapach and R. Yakimova and A. V. Shytov and M. F. Craciun and S. Russo},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1506.04959},
  year   = {2015}
}

备注

Nano Lett, volume 14, no. 4, pages 1751-1755