NiPt薄膜中的反常霍尔效应

我们研究了不同Ni浓度的溅射NixPt1-x薄膜中的霍尔效应。分析了温度、磁场和角度依赖性，并获得了NiPt薄膜的相图。研究发现，亚临界Ni浓度的薄膜在低温下表现出团簇玻璃行为，且在冻结温度以下具有垂直磁各向异性。超临界Ni浓度的薄膜为铁磁体，具有平行各向异性。在临界浓度下，薄膜的状态处于强烈阻挫。此类薄膜表现出倾斜磁化，其易轴随温度变化而旋转。磁性的出现经由顺磁-团簇玻璃-铁磁的连续转变，而非单一的二级相变。但最值得注意的是，反常霍尔效应在临界浓度处发生变号。我们认为这与正常金属-铁磁体量子相变时合金电子结构的重构有关。