镓 K 壳层与 L3 壳层 XRF 基本参数的精确实验测定
原子物理
2018-05-09 v1
摘要
利用 BESSY II 同步辐射设施上经辐射校准（无参考）的 X 射线荧光仪器测定了镓 K 壳层与 L3 壳层的荧光产额。获得了来自 GaSe 箔的透射与荧光信号 simultaneously，得到的 K 与 L3 壳层荧光产额值与现有数据库值一致（omega_Ga_K=0.515 ± 0.019，omega_Ga_L3=0.013 ± 0.001）。这些标准合成不确定度首次由恰当构建的不确定度预算获得。这些 K 壳层荧光产额值支持 Bambynek 1972 年的半经验汇编：这些及其他测量给出了合成推荐值 omega_Ga_K=0.514 ± 0.010。利用测得的荧光产额与来自参考 Ga 注入样品的产生产额（其中注入 Ga 的量通过卢瑟福背散射谱以 1.3% 可溯源精度确定），还在选定入射光子能量处确定了 K 壳层与 L3 子壳层光电离截面，并与标准数据库进行了严格比较。
引用
@article{arxiv.1805.02951,
title = {Accurate experimental determination of Gallium K- and L3-shell XRF fundamental parameters},
author = {Rainer Unterumsberger and Philipp Hönicke and Julien L. Colaux and Chris Jeynes and Malte Wansleben and Matthias Müller and Burkhard Beckhoff},
journal= {arXiv preprint arXiv:1805.02951},
year = {2018}
}
备注
17 pages, 6 figures