L(S)DA+U 中局域极小值的系统研究
材料科学
2018-10-25 v1
摘要
我们对 NiO、CoO、FeO 的密度泛函理论加 Hubbard U (DFT+U) 模拟中亚稳态的出现进行了系统研究。特别关注交换关联泛函的自旋极化与双重计数项,以及自旋轨道耦合的作用。将占据矩阵控制方法拓展为使用受限随机密度矩阵来描绘总能量图景中的局域极小值。这一拓展方案——随机密度矩阵控制,成功地以 UO2(该领域被研究最多的体系之一)为基准进行了检验。应用于过渡金属氧化物时,它给出了若干个由其局域自旋与轨道矩明确表征的亚稳态。我们发现自旋轨道耦合的加入有助于模拟收敛到全局高自旋能量极小。随机密度矩阵控制方案与 LDA+U 结合,对所有所研究的反铁磁过渡金属氧化物给出了准确的磁矩。
引用
@article{arxiv.1810.10393,
title = {A systematic study of the local minima in L(S)DA+U},
author = {Samara Keshavarz and Patrik Thunström},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.10393},
year = {2018}
}
备注
14 figures