一种用于氙气纯度分析的高灵敏度简易技术
仪器与探测器
2011-05-09 v2
摘要
我们报告了一种用于气态氙的高灵敏度纯度分析技术的开发和性能。使用超高真空泄漏阀从目标系统中以宏观压力采样气体。用液氮冷阱去除样品中存在的氙，剩余杂质用标准真空质谱设备观测。使用掺有已知水平杂质的校准氙气样品，我们发现N2、O2和甲烷的最低可检测水平分别为1 ppb、160 ppt和60 ppt。与不使用冷阱进行的测量相比，这代表了约10,000倍的改进。
引用
@article{arxiv.1002.2742,
title = {A simple high-sensitivity technique for purity analysis of xenon gas},
author = {D. S. Leonard and A. Dobi and C. Hall and L. Kaufman and T. Langford and S. Slutsky and Y. R. Yen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1002.2742},
year = {2011}
}
备注
20 pages, 5 figures