石墨烯中 Skyrmion 激发的 Zeeman 耦合与屏蔽修正
介观与纳米尺度物理
2014-01-08 v1
摘要
在石墨烯中四重简并 Landau 能级 |n| \geq 1 的半填充状态下,基态是自旋极化的量子霍尔态,支持 |n| =1,2,3 时的自旋 skyrmion 激发。在 Hartree-Fock 近似下,我们计算了这些 Landau 能级中未束缚自旋 skyrmion-antiskyrmion 激发的激发能随 Zeeman 耦合强度的变化关系。我们发现,对于裸库仑相互作用和屏蔽库仑相互作用,在 |n| =1,2,3 的 Landau 能级中,在一定范围的 Zeeman 耦合强度下,自旋 skyrmion-antiskyrmion 激发能低于未束缚自旋 1/2 电子 - 空穴对的激发能。该范围随 Landau 能级指数的增加而迅速减小,且在 |n| =3 时极小。对于应在 Landau 能级 |n| =1,2,3 的 1/4 和 3/4 填充状态下存在的谷 skyrmion,我们表明屏蔽修正在后一种情况下更为重要。由此可知,未束缚谷 skyrmion-antiskyrmion 激发在 3/4 填充时的能量低于 1/4 填充时。我们将我们的结果与近期关于石墨烯中自旋和谷 skyrmion 激发的实验进行了比较。
引用
@article{arxiv.1307.7321,
title = {Zeeman coupling and screening corrections to skyrmion excitations in graphene},
author = {Wenchen Luo and R. Côté},
journal= {arXiv preprint arXiv:1307.7321},
year = {2014}
}
备注
15 pages with 11 eps figures