2025年及未来超大规模设计自动化（ESDA）的挑战与机遇研讨会
计算机与社会
2020-05-05 v1
摘要
集成电路和电子系统以及设计技术正在以极快的速度发展——无论是在数量上还是质量上。主要的发展包括具有原子尺度不确定性的新型互连和开关器件、片上集成的深度和规模、电子系统级集成、软件日益增长的重要性，以及更有效的设计输入、编译、算法优化、数值模拟、硅前和硅后设计验证以及芯片测试方法。应用目标和关键市场也从台式机CPU显著转向移动平台和物联网基础设施。鉴于电子设计环境的这些变化，以及EDA对这种环境的显著依赖性，EDA社区必须适应这些变化，并专注于研究和商业成功的机会。在ACM SIGDA的支持下组织的CCC超大规模设计自动化系列研讨会，研究了EDA社区面临的挑战以及当前可用的令人兴奋的新机遇。本文档是对这些会议成果的总结。
引用
@article{arxiv.2005.01588,
title = {Workshops on Extreme Scale Design Automation (ESDA) Challenges and Opportunities for 2025 and Beyond},
author = {R. Iris Bahar and Alex K. Jones and Srinivas Katkoori and Patrick H. Madden and Diana Marculescu and Igor L. Markov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2005.01588},
year = {2020}
}
备注
A Computing Community Consortium (CCC) workshop report, 32 pages