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拓扑绝缘体多层结构中的外尔半金属

介观与纳米尺度物理 2013-05-29 v2

摘要

我们提出了一种三维(3D)外尔半金属相的简单实现方案,利用由磁性掺杂的3D拓扑绝缘体(TI)相同薄膜组成的多层结构,薄膜之间由普通绝缘体间隔层隔开。我们证明了该系统的相图包含一种最简单可能类型的外尔半金属相,在其能带结构中,动量空间中仅分离出两个具有相反手性的Dirac节点。这种特定类型的外尔半金属具有有限的反常霍尔电导率、手性边缘态,并且作为普通绝缘体与具有量子化霍尔电导率(等于每TI层e2/he^2/h)的3D量子反常霍尔绝缘体之间的中间相出现。我们发现外尔半金属在零温下具有非零的直流电导率,因此是一种非寻常的金属相,其特征是具有有限的反常霍尔电导率和拓扑保护的边缘态。

关键词

引用

@article{arxiv.1105.5138,
  title  = {Weyl Semimetal in a Topological Insulator Multilayer},
  author = {A. A. Burkov and Leon Balents},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1105.5138},
  year   = {2013}
}

备注

4 pages, 3 figures, published version