通过物理沉积方法制备可见光吸收型 TiO2 薄膜
应用物理
2018-08-01 v1
摘要
二氧化钛是应用最广泛的宽禁带材料之一。然而，沉积在衬底上的 TiO2 并不总是透明的，这会导致器件效率尤其是光响应的损失。在此，我们表明原子层沉积（ALD）和溅射的 TiO2 薄膜在可见光区可具有强吸收。在 ALD 中，其机制被认为源于氧缺陷；有趣的是，在溅射薄膜中观察到富氧氛围反而导致可见光吸收。我们表明，沉积过程中的氧含量可控制薄膜的电阻率，并且对 ALD 和溅射薄膜的光催化响应均进行了评估。高分辨 TEM 和 STEM 研究表明，可见光吸收的来源可能是非晶薄膜内具有表面缺陷的纳米颗粒的存在。
引用
@article{arxiv.1807.11748,
title = {Visible absorbing TiO2 thin films by physical deposition methods},
author = {Litty Varghese and Anuradha Patra and Biswajit Mishra and Deepa Khushalani and Achanta Venu Gopal},
journal= {arXiv preprint arXiv:1807.11748},
year = {2018}
}