单层 MoS$_{2}$ 中由于谷间和谷内电子 - 空穴交换相互作用导致的谷退极化
介观与纳米尺度物理
2014-05-13 v3 材料科学
摘要
我们研究了单层 MoS 中由于电子 - 空穴交换相互作用导致的谷退极化。计算了谷内和谷间电子 - 空穴交换相互作用的长程和短程部分。我们发现,长程和短程交换相互作用均可引起谷间和谷内亮激子跃迁。由于价带的巨大分裂,谷内亮激子跃迁通道几乎被禁止,而由于交换相互作用引起的谷间通道可以通过 Maialle-Silva-Sham 机制 [Phys. Rev. B {\bf 47}, 15776 (1993)] 有效地导致谷退极化。仅考虑长程交换相互作用时,计算结果与最近的谷极化实验吻合良好,包括时间分辨谷极化测量、泵浦 - 探测实验和稳态 PL 偏振测量。我们进一步表明,对于具有大(小)质心动量的 A-激子,长程交换相互作用可引起快速(慢速)的谷间激子跃迁。
引用
@article{arxiv.1401.0047,
title = {Valley depolarization due to inter- and intra-valley electron-hole exchange interactions in monolayer MoS$_{2}$},
author = {T. Yu and M. W. Wu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1401.0047},
year = {2014}
}
备注
8 pages, 2 figure