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应变 Ge$_{1-x}$Sn$_x$ 量子阱 pFET 的价带结构计算

计算物理 2017-03-07 v1 材料科学

摘要

采用非局域经验赝势方法,计算了 Sn 含量在 0 ≤ x ≤ 0.2 范围内时 Ge1x_{1-x}Snx_x 的价带结构对 Sn 含量、双轴应变及衬底取向的依赖关系。利用 6×6 k·p 模型,理论研究了 p 型 Ge 覆盖层/全应变 Ge1x_{1-x}Snx_x 量子阱/Ge (001) 和 (111) 反型层中的第一价带子带结构。Ge 覆盖层相对于应变 Ge1x_{1-x}Snx_x 量子阱的波函数耦合受覆盖层厚度、价带带阶和受限有效质量的影响,改变了二维 k 空间中的能量色散关系。Sn 含量的增加和覆盖层厚度的减小提高了应变 Ge1x_{1-x}Snx_x 量子阱中的空穴布居数,从而降低了 Ge/应变 Ge1x_{1-x}Snx_x/Ge 反型层中布里渊区中心的输运有效质量。

关键词

引用

@article{arxiv.1703.01812,
  title  = {Valence band structure calculations of strained Ge$_{1-x}$Sn$_x$ quantum well pFETs},
  author = {H-S Lan and C W Liu},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1703.01812},
  year   = {2017}
}

备注

6 pages, 6 figures, 2 tables