bulk 和界面增强自旋泵浦的统一描述
介观与纳米尺度物理
2009-11-11 v1 材料科学
摘要
在扩散图景下处理由射频磁场泵浦在金属或半导体中产生的非平衡自旋积累动力学。通过旋转应用磁场或弱铁磁体预cessing磁化产生的直流自旋积累在均匀系统中通常给定为hbar omega的一个（小）分数，其中omega为旋转或预cess频率。通过添加相邻的无场区域并允许自旋扩散，自旋积累在界面处被显著增强，在自旋松弛时间很长的极限下饱和于普适值hbar omega。当系统尺寸约为sqrt(2pi D omega)时，可最大化此效果，其中D为扩散常数。我们将结果与A. Brataas等人[Phys. Rev. B 66, 060404(R) (2002)]的界面自旋泵浦理论进行比较。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0509100,
title = {Unified description of bulk and interface-enhanced spin pumping},
author = {S. M. Watts and J. Grollier and C. H. van der Wal and B. J. van Wees},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0509100},
year = {2009}
}