基于简单随机刻蚀动力学的底切现象
材料科学
2010-03-11 v1
摘要
电化学半导体刻蚀的丰富形貌尚未得到充分的理论建模对应。本文研究了 Föll 和 Carstensen 提出的带老化效应的电流脉冲模型的一个最小版本，并在受限几何结构下证明，老化概念对于底切或空腔生成至关重要。如果忽略老化的影响，动力学将简化为类似于随机沉积模型的随机刻蚀模型。这个计算机思想实验表明，与表面粗化及相关系统中获得的刻蚀形貌相比，具有老化依赖的动力学反应概率的随机动力学可以解释不同的刻蚀形貌。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0410541,
title = {Underetching from simple stochastic etching kinetics},
author = {Jens Christian Claussen and Jürgen Carstensen},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0410541},
year = {2010}
}
备注
3 pages (2 figs included)