瞬态涡流流量计量

在包括金属铸造和硅晶体生长在内的许多工业应用中，测量液态金属或半导体熔体中的局部速度或整个流速是著名的难题。我们提出一种旧技术的新变体，该技术依赖于连续追踪由脉冲外部磁场诱导的、随流平流的瞬态涡流。这种免校准方法通过将其应用于铝制旋转圆盘的速度得到验证。还展示了在液态GaInSn流动实验台上的初步测试。