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沿 [111] 方向的层状烧绿石氧化物薄膜中的拓扑相

强关联电子 2013-01-11 v2

摘要

我们从理论上研究了形式为 A2_2B2_2O7_7 的烧绿石氧化物的多带 Hubbard 模型,其中 B 为具有强自旋轨道耦合的重过渡金属离子,几何结构为沿 [111] 方向取向的薄膜。沿此方向,烧绿石晶格由交替的 B 离子 Kagome 和三角晶格平面组成。我们考虑了单层 Kagome 层、双层以及两种不同的三层结构。作为自旋轨道耦合强度、直接和间接 dd-轨道跃迁以及能带填充量的函数,我们确定了一系列预期存在非相互作用时间反演不变 Z2_2 拓扑相的情形,并提出了一些候选材料。我们在 Hatree-Fock 理论框架下研究了半满 dd-壳层中的相互作用,并确定了可发现陈数为 ±1\pm1 的零磁场陈绝缘体的参数区域。最有利于拓扑相的几何结构似乎是双层结构(支持 Z2_2 拓扑绝缘体和陈绝缘体)以及三角-Kagome-三角三层结构(支持相对稳健的陈绝缘体相)。

关键词

引用

@article{arxiv.1211.0562,
  title  = {Topological phases in layered pyrochlore oxide thin films along the [111] direction},
  author = {Xiang Hu and Andreas Rüegg and Gregory A. Fiete},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1211.0562},
  year   = {2013}
}

备注

12 pages, 14 figures, with one figure added and references updated