沿 [111] 方向的层状烧绿石氧化物薄膜中的拓扑相
强关联电子
2013-01-11 v2
摘要
我们从理论上研究了形式为 ABO 的烧绿石氧化物的多带 Hubbard 模型,其中 B 为具有强自旋轨道耦合的重过渡金属离子,几何结构为沿 [111] 方向取向的薄膜。沿此方向,烧绿石晶格由交替的 B 离子 Kagome 和三角晶格平面组成。我们考虑了单层 Kagome 层、双层以及两种不同的三层结构。作为自旋轨道耦合强度、直接和间接 -轨道跃迁以及能带填充量的函数,我们确定了一系列预期存在非相互作用时间反演不变 Z 拓扑相的情形,并提出了一些候选材料。我们在 Hatree-Fock 理论框架下研究了半满 -壳层中的相互作用,并确定了可发现陈数为 的零磁场陈绝缘体的参数区域。最有利于拓扑相的几何结构似乎是双层结构(支持 Z 拓扑绝缘体和陈绝缘体)以及三角-Kagome-三角三层结构(支持相对稳健的陈绝缘体相)。
引用
@article{arxiv.1211.0562,
title = {Topological phases in layered pyrochlore oxide thin films along the [111] direction},
author = {Xiang Hu and Andreas Rüegg and Gregory A. Fiete},
journal= {arXiv preprint arXiv:1211.0562},
year = {2013}
}
备注
12 pages, 14 figures, with one figure added and references updated