Tl-2212 薄膜中的微波涡旋动力学

我们报告了在生长于 CeO$_2$缓冲蓝宝石衬底上的 Tl-2212 薄膜（$T_c>$ 103 K）中，由静磁场引起的有效表面阻抗变化 $\Delta Z(H,T)=\Delta R(H,T)+\rmi \Delta X(H,T)$ 的测量结果。测量通过工作在 47.7 GHz 的介质谐振器进行，温度范围为 60 K$\leq T<T_c$，磁场 $\leq0.8$ T。我们观测到异常大的场致变化，并且在几乎整个探索的 $(H,T)$ 范围内，$\Delta R(H)$ 和 $\Delta X(H)$ 均表现出显著的超线性场依赖关系，且 $\Delta X(H)>\Delta R(H)$。通过对数据的仔细分析，我们将这些结果解释为主要由涡旋动力学主导。在中高场范围内，我们借助标准高频模型并适当考虑蠕变贡献，提取了主要的涡旋参数。钉扎常数随磁场表现出显著下降，这可解释为与初始层间去耦合相关的磁通线软化。我们发现涡旋粘滞系数很小，比 Y-123 低一个数量级。文中对这些发现提供了一些推测。