独立硅烯片层的热稳定性
材料科学
2015-06-17 v1 统计力学
摘要
我们进行了广泛的蒙特卡洛模拟，以研究无限大独立硅片层的热稳定性。我们使用了 Tersoff 势，该势函数在低温下成功应用于硅的研究。然而，使用 Tersoff 提供的原始参数计算出的熔化温度 相对于实验值过高。Agrawal、Raff 和 Komanduri 提出了一组修正参数以降低 。为了进行比较，我们使用这两组参数研究了被称为“硅烯”（silicene，类比于碳片的石墨烯）的独立二维硅片层的稳定性和熔化过程。我们发现，二维晶体硅烯在高温下是稳定的，这与具有各向同性势（如 Lennard-Jones 势）的二维系统不同。使用两组参数所得结果的差异显著。
引用
@article{arxiv.1309.3828,
title = {Thermal stability of standalone silicene sheet},
author = {Virgile Bocchetti and Hung T. Diep and H. Enriquez and H. Oughaddou and A. Kara},
journal= {arXiv preprint arXiv:1309.3828},
year = {2015}
}