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欠掺杂铜氧化物前缘能隙的理论

强关联电子 2009-10-30 v1

摘要

我们提出了欠掺杂高TcT_c材料正常态前缘能隙的理论。该考虑基于铜氧化物的磁性机制。我们表明,随着掺杂减少,与顺磁子的相互作用增强导致费米液体近乎破坏,这反过来又产生了dd-波配对的先驱迹象。我们认为,在30meV\sim 30 meV处的前缘能隙和谱函数中在150meV\sim150 meV处的宽峰是同一物理现象的副产品。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/9709221,
  title  = {Theory of the leading edge gap in underdoped cuprates},
  author = {Andrey V. Chubukov},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9709221},
  year   = {2009}
}

备注

4 pages, revtex, two figures