石墨薄膜超快速消融的理论
材料科学
2007-05-23 v1
摘要
我们使用微观电子理论分析了由 femtosecond 激光脉冲引起的石墨薄膜损伤形成的物理机制。我们通过在时变势能曲面上进行分子动力学模拟来描述电子和晶格的非平衡动力学。我们表明，石墨具有两个不同的激光诱导结构不稳定性。对于高吸收能 (> 3.3 eV/atom)，我们发现非平衡熔化随后快速蒸发。对于低于损伤阈值 (> 2.0 eV/atom) 的高强度，消融通过去除完整的石墨片发生。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0103118,
title = {Theory for the ultrafast ablation of graphite films},
author = {H. O. Jeschke and M. E. Garcia and K. H. Bennemann},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0103118},
year = {2007}
}
备注
5 pages RevTeX, 3 PostScript figures, submitted to Phys. Rev