暗晕装配偏倚的尺度依赖性

暗物质晕的两点成团不仅受质量影响，还受其他晕属性影响，这一现象被称为晕装配偏倚。本文以引力势阱深度 $V_{\rm max}$ 作为次级晕属性，首次研究了尺度依赖性装配偏倚。在大尺度线性区 $r\geq10h^{-1}{\rm Mpc}$，我们的发现与先前结果一致。特别地，在低质量端（$M_{\rm vir}<M_{\rm coll}\approx10^{12.5}{\rm M}_{\odot}$），高 $V_{\rm max}$ 晕相较于同质量低 $V_{\rm max}$ 晕表现出更强的大尺度成团；该趋势在 $M_{\rm vir}\geq M_{\rm coll}$ 时减弱并反转。在非线性区，低质量晕的装配偏倚在 $500h^{-1}{\rm kpc}-5h^{-1}{\rm Mpc}$ 呈现出显著的尺度依赖性“隆起”，这是一新结果。该特征在更高质量晕中减弱并最终消失。我们表明，这一尺度依赖性特征主要归因于一类特殊的抛射晕子群体，其定义为当前宿主晕在其过去历史的某时刻曾是更高品质晕的成员。我们结果的一个推论是，即便对于恒星质量限制样本，在 $r\sim1-2h^{-1}{\rm Mpc}$ 尺度上的星系成团也会受到晕模型中所用晕属性选择的多达 $\sim15\%$ 的影响。