薄Ni薄膜在Pd(100)面上拟相变为体相的研究
材料科学
2009-11-10 v1
摘要
我们测量了拟相的Ni薄膜在Pd(100)面上向其体相fcc相变的过程，随着薄膜厚度的变化。我们利用X射线衍射和X射线诱导光子发射来研究Ni薄膜及其与基片界面演化。观察到在Ni层厚度达到10层（其中两层与基片混合）时，薄膜呈现以面心立方对称(fct)的扭曲拟相生长，随后形成新的fcc体相。随着体相Ni域的形成，我们观察到拟相fct域消失，同时保持层数及其间距不变。因此，相变通过体相fcc域在拟相中进行横向生长的方式进行，即体相fcc域在形成后向下渗透至基片表面。不同相域之间墙壁的深厚度也通过基片-薄膜界面混合程度的显著增加所反映，该混合现象在相变开始时即出现，并在更大的厚度下继续加剧。体相fcc相也存在轻微应变，其向正交相晶格结构的松弛随薄膜厚度缓慢进行，在目前研究的 maximum 厚度30 Å（约17层）时尚未完全完成。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0401221,
title = {The pseudomorphic to bulk fcc phase transition of thin Ni films on Pd(100)},
author = {G. A. Rizzi and A. Cossaro and M. Petukhov and F. Sedona and G. Granozzi and F. Bruno and D. Cvetko and A. Morgante and L. Floreano},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0401221},
year = {2009}
}
备注
8 pages, 7 figures