ANTARES 光束线上的新型中子光栅干涉仪——设计、原理与应用
材料科学
2016-10-10 v1
摘要
中子光栅干涉测量术（neutron grating interferometry）是中子成像中的一种先进方法，可同时记录透射、微分相位和暗场图像。尤其是后者（暗场）近来因其独特的对比度机制而受到高度关注，该机制标记了样品内的超小角中子散射。因此，在中子光栅干涉测量术中，成像对比度由中子从微米级不均匀体上的散射产生。尽管散射体无法被分辨，但它导致了可测量的光束局部退相干。本文报道了最近在 Heinz Maier-Leibnitz Zentrum 的 ANTARES 光束线上实现的一种新型中子光栅干涉仪的设计考量、原理与应用。其高度灵活的设计允许进行诸如定向与定量暗场成像等实验，这些实验提供关于样品微观结构各向异性和形状的空间分辨信息。给出了中子光栅干涉仪（nGI）原理的全面概述，随后是通过理论考量来优化该装置在不同应用中的性能。此外，介绍了该装置的广泛表征，并通过精选案例研究展示了其能力：(i) 用于材料区分的暗场成像，(ii) 用于标记和量化样品内微米级各向异性的定向暗场成像，以及 (iii) 定量暗场成像，通过探测样品的自相关函数提供关于其微观结构尺寸的额外信息。
引用
@article{arxiv.1602.08846,
title = {The new neutron grating interferometer at the ANTARES beamline - Design, Principle, and Applications -},
author = {Tommy Reimann and Sebastian Mühlbauer and Michael Horisberger and Peter Böni and Michael Schulz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1602.08846},
year = {2016}
}
备注
Submitted to the Journal of Applied Crystallography