CuInP$_2$S$_6$薄膜基态研究:基于深度势方法
材料科学
2026-03-27 v1
摘要
二维铁电(FE)材料CuInPS(CIPS)因其在室温下具有垂直铁电性而备受广泛关注。然而,实验与密度泛函理论(DFT)计算在CIPS薄膜的基态方面存在显著差异:实验表明其具有净极化,而DFT预测其为最低能态的反铁电(AFE)态。本文通过结合第一性原理计算和深度势(DP)方法,研究了CIPS薄膜中极化态的稳定性。我们的结果表明,对于厚于双层的薄膜,具有类内AFE排序的内层和两个表面层中类内FE排序的AFE态具有最低的电子能量。该态显著低于均匀FE态。在此基础上,我们发现具有纯类内FE排序的铁电铁电(FiE)态在能量上与AFE态非常接近。利用DP模型,我们计算了CIPS薄膜的声子自由能。对于单层,类内FE排序的声子自由能低于类内AFE排序。这一能量偏好随薄膜厚度的增大而保持。因此,在声子自由能纳入后,FiE态在多层CIPS薄膜中能量上优于AFE态。我们的发现表明,声子熵的纳入在有限温度下使FiE态成为多层CIPS的基态,从而调和了之前实验观察与DFT预测之间的差异。为理解CIPS的FE特性及其在器件中的潜在应用提供了重要洞见。
关键词
引用
@article{arxiv.2603.24901,
title = {The ground state of CuInP$_2$S$_6$ thin films: A study of the deep potential method},
author = {Shengxian Li and Jiaren Yuan and Tao Ouyang and Anlian Pan and Mingxing Chen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2603.24901},
year = {2026}
}
备注
10.2 pages, 9 figures