无序作用下相互作用驱动拓扑绝缘体的命运
强关联电子
2017-11-22 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们分析了无序对二维费米系统中二次能带交叉点（QBCP）弱耦合不稳定性的影响，在洁净极限下，该系统呈现相互作用驱动的拓扑绝缘相。在将费米子相互作用与无序同等处理的重整化群框架下，我们检验了所有可能的不稳定性，并确定了单谷与双谷 QBCP 系统在有无序存在时的相应有序相。我们发现无序通常会抑制相互作用驱动的拓扑非平庸序出现的临界温度。强无序还可引起拓扑相变，进入拓扑平庸的绝缘态。
引用
@article{arxiv.1710.09632,
title = {The fate of interaction-driven topological insulators under disorder},
author = {Jing Wang and Carmine Ortix and Jeroen van den Brink and Dmitry V. Efremov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1710.09632},
year = {2017}
}
备注
16 pages, 17 figures