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质子辐照硅体内产生的反向电流的温度标度

仪器与探测器 2019-09-04 v2

摘要

对于高辐照器件,硅体内产生电流的温度依赖性标度参数 EeffE_{\text{eff}} 的值被研究。辐照注量高于 1×1015neqcm21 \times 10^{15} n_{\text{eq}} \text{cm}^{-2} 的器件测量显示出与低注量辐照器件不同的温度标度行为。本文给出了用质子辐照至注量达 3×1015neqcm23 \times 10^{15} n_{\text{eq}} \text{cm}^{-2} 的二极管在 00V 至 10001000V 偏压范围、温度从 36C-36 ^{\circ}\text{C}0C0 ^{\circ}\text{C}、不同退火阶段的参数 EeffE_{\text{eff}} 的确定。结果表明,高辐照器件的 EeffE_{\text{eff}} 依赖于所加电场:在耗尽电压以下,EeffE_{\text{eff}} 观察到比耗尽电压以上具有更低的值。

关键词

引用

@article{arxiv.1904.04698,
  title  = {Temperature scaling of reverse current generated in proton irradiated silicon bulk},
  author = {Felix Wizemann and Andreas Gisen and Kevin Kröninger and Jens Weingarten},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1904.04698},
  year   = {2019}
}

备注

Prepared for submission to JINST