采用交叉耦合控制器提升纳米轮廓加工性能的研究
机器人学
2008-05-01 v1
摘要
针对跟踪阶段的路径规划,我们设计了一个双轴交叉耦合控制系统,该系统使用 PI 控制器来补偿轴间的轮廓误差。本文中采用的平台由我们实验室(国立虎尾科技大学精密机械中心)设计。交叉耦合控制器通过结合多轴位置误差来计算每个轴的驱动信号。因此,交叉耦合控制器提高了平台的跟踪能力并减小了轮廓误差。实验显示出优异的平台运动表现。这一发现证实所提出的方法是提高平台跟踪能力的强大且高效的工具。此外还发现,两类圆形路径的平台跟踪最小轮廓误差约为 25nm。
引用
@article{arxiv.0804.4749,
title = {Study of improving nano-contouring performance by employing cross-coupling controller},
author = {Wen Yuh Jywe and Shih Shin Chen and Hung-Shu Wang and Chien Hung Liu and Hsin Hung Jwo and Yun Feng Teng and Tung Hsien Hsieh},
journal= {arXiv preprint arXiv:0804.4749},
year = {2008}
}
备注
Uploaded by ICIUS2007 Conference Organizer on behalf of the author(s). 6 pages, 8 figures