电子束蒸发 ZrO2:10%SiO2 薄膜的结构相关光学性质
材料科学
2020-09-22 v2
摘要
采用反应电子束共蒸发技术，在不同的氧分压下将 ZrO2:10%SiO2 薄膜沉积在熔融石英基底上。结构分析显示薄膜中存在具有残余拉应力的四方相。发现四方 t(110) 相的强度随氧压力的增加而增加。由于单斜相结晶度的增加，光学带隙从 5.06 eV 增加到 5.28 eV，而薄膜晶粒尺寸随氧压力的增加几乎保持不变，得出结论：微晶或晶粒尺寸对薄膜的光学性质没有影响。折射率的色散用单振子 Wimple-DiDomenico 模型进行讨论。被称为结构有序参数的色散能量参数随 t(110) 相强度的增加而增加。观察到具有较高有序参数值的薄膜表现出较低的表面粗糙度，这表明局部微观结构有序性可以主要影响晶粒形貌，进而导致对于较高有序参数值具有更好的表面。
引用
@article{arxiv.1403.4794,
title = {Structure related optical properties of electron beam evaporated ZrO2:10%SiO2 thin films},
author = {S. Jena and R. B. Tokas and S. Thakur and N. K. Sahoo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.4794},
year = {2020}
}
备注
10 pages, 10 figures and one table