可烘烤电容薄膜规的稳定性
仪器与探测器
2021-10-26 v1
摘要
在此，我们研究电容薄膜规的稳定性。我们关注其在受控的一系列烘烤前后的稳定性。我们发现烘烤导致零偏移的明显偏移，但注意到这些可以在使用时轻易校正。然而线性度无法在使用时校正，因此若希望在需要烘烤的系统中使用类似规，理解其影响至关重要。对于本研究中的规，我们发现烘烤引入了极小的额外不确定度，且总不确定度在 k=2 置信水平（95%）下可保持在约 0.3% 以下。
引用
@article{arxiv.2110.13063,
title = {Stability of bakeable capacitance diaphragm gauges},
author = {Julia Scherschligt and Daniel Barker and Stephen Eckel and James Fedchak and Emmanuel Newsome},
journal= {arXiv preprint arXiv:2110.13063},
year = {2021}
}
备注
5 pages, 6 figures