利用磁场退火的 Ni80Fe20 薄膜进行自旋泵浦
材料科学
2014-11-03 v3
摘要
为了研究纯自旋流的简单高效产生方法，我们利用在磁场中退火的 Ni80Fe20 薄膜的铁磁共振进行了自旋泵浦实验。在退火的 Pd/Ni80Fe20 堆叠结构上使用 Ni80Fe20 进行自旋泵浦时，发现 Pd 中由逆自旋霍尔效应 (ISHE) 产生的电动势比未退火情况强 30%。当自旋泵浦过程中 Ni80Fe20 薄膜内局域磁矩方向与外磁场方向之间的夹角为零时，注入 Pd 层的自旋效率（即 Pd 层中产生的自旋流密度）达到最大。磁场退火是一种提高自旋泵浦产生的自旋流密度的便捷技术。
引用
@article{arxiv.1407.7028,
title = {Spin pumping using an Ni80Fe20 thin film annealed in a magnetic field},
author = {Hideki Shimogiku and Naoyuki Hanayama and Yoshio Teki and Hiroaki Tsujimoto and Eiji Shikoh},
journal= {arXiv preprint arXiv:1407.7028},
year = {2014}
}
备注
18 pages, 4 figures, article