小$x$下的自旋翻转胶子GTMD $F_{1,2}$

直到最近，深度非弹性散射中的自旋翻转过程被认为在高能下受到抑制。我们发现自旋翻转广义横向动量依赖部分子分布（GTMD）${\rm Re}(F_{1,2})$的正截距为：\begin{eqnarray} {\rm Re}(F_{1,2}) \sim \left(\frac{1}{x}\right)^{{\bar \alpha}_s\left(4\ln2-8/3\right)} \left(\cos 3\phi_{k\Delta} +\cos \phi_{k\Delta}\right). \nonumber \end{eqnarray} 这是通过解析求解Hatta和Zhou最近提出的${\rm Re}(F_{1,2})$的积分微分演化方程在稀薄区域得到的。有趣的是，存活的解对应共形自旋$n=2$，并具有显式的$\cos 3\phi_{k\Delta} + \cos \phi_{k\Delta}$方位角依赖。由于$F_{1,2}$的虚部与自旋依赖的odderon或胶子Siver函数相关，且标度为${\rm Im}(F_{1,2}) \sim x^{0}$，${\rm Re}(F_{1,2})$的正截距意味着它有望在小$x$极限下主导胶子Siver函数，并可能直接影响非极化GTMD和相关的自旋翻转过程的建模。