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用于可调原子级锐利氧化物界面的溶液单分子层外延

强关联电子 2017-10-13 v1 介观与纳米尺度物理 材料科学

摘要

原子级锐利界面的外延生长是纳米制造的主要构建模块之一。此类界面对于包括晶体管、光伏电池和存储元件在内的各种器件的工作至关重要。为避免可能妨碍此类器件工作的电荷陷阱,各层具有原子级锐利性至关重要。原子级锐利界面的制造通常需要超高真空技术和高基底温度。我们在此提出一种基于醇盐前驱体沉积外延层的新型自限制湿化学工艺。该方法快速、廉价,并产生完美的界面,我们通过多种分析技术进行了验证。它允许以半晶胞分辨率设计异质结构。我们通过设计空穴型氧化物界面 SrTiO3/BaO/LaAlO3 展示了我们的方法。我们表明,通过该界面的输运表现出混合电子-空穴贡献的特性,且空穴迁移率超过电子迁移率。我们的方法和结果是朝着可控设计 p 型氧化物界面迈出的重要一步。

关键词

引用

@article{arxiv.1710.04216,
  title  = {Solution Monolayer Epitaxy for Tunable Atomically Sharp Oxide Interfaces},
  author = {A. Ron and A. Hevroni and E. Maniv and M. Mograbi and L. Jin and C. -L. Jia and K. W. Urban and G. Markovich and Y. Dagan},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1710.04216},
  year   = {2017}
}

备注

5 figures 5 pages