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Ga$_2$O$_3$ MOSFET 单粒子效应仿真研究

材料科学 2023-01-26 v1 介观与纳米尺度物理 应用物理

摘要

本文研究导致 β\beta-Ga2_2O3_3 MOSFET 单粒子效应(Single Events Effects, SEE)进而引发单粒子烧毁(Single Event Burnout, SEB)的机理。利用 Silvaco TCAD 进行二维仿真,以理解横向 Ga2_2O3_3 MOSFET 中 SEB 机理背后的机制。沟道中的高电场起关键作用,导致高碰撞电离产生率并最终引发 SEB。为降低沟道电场,提出了采用圆角栅极以及高介电常数(k)介质与 SiO2_2 组合的抗辐射加固设计。采用 HfO2_2-SiO2_2 介质组合,在 LET=10 MeV/mg/cm2^2 时 SEB 阈值为 550V。然而,为在极端辐射条件下工作,提出了极高-k 介质材料 BaTiO3_3 与 SiO2_2 的组合。采用该抗辐射加固设计,在 LET=75 MeV/mg/cm2^2 时 SEB 阈值可达 1000 V,高于当前最先进技术。还计算了离子轰击事件期间的耗散能量,观察到其低于 SiC MOSFET。

关键词

引用

@article{arxiv.2301.10316,
  title  = {Simulation studies of Single Event Effects in Ga$_2$O$_3$ MOSFETs},
  author = {Animesh Datta and Uttam Singisetti},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2301.10316},
  year   = {2023}
}