Io上的硅四氟化物
天体物理学
2009-11-11 v1
摘要
硅四氟化物(SiF4)在陆地火山气体中被观察到，亦被预测为低温火山气体中主要的氟-含有物种（Schaefer 和 Fegley, 2005b）。SiF4气体也是硅富集岩石板块指示器。我们利用陆地和外星基岩中F/S比值，结合在陆地火山测得的F和S的气/岩浆富集因子，计算出Io火山气体中平衡的SiF4/SO2比值。我们得出结论，SiF4可在与观测到的NaCl/SO2气体比值相当的水平上产生。我们还考虑了SiF4在火山喷流和Io大气中的潜在损失过程，包括离子-分子反应、电子化学、光化学、与主要大气成分的反应以及凝结。光化学破坏（tchem ~ 266天）和/或作为Na2SiF6(s)的凝结似乎是SiF4的主要消耗途径。我们建议通过红外光谱学搜索SiF4，其9.7微米波段如在地球上所做。
引用
@article{arxiv.astro-ph/0506032,
title = {Silicon Tetrafluoride on Io},
author = {Laura Schaefer and Bruce Fegley},
journal= {arXiv preprint arXiv:astro-ph/0506032},
year = {2009}
}
备注
16 pages, 2 figures, 1 table; Icarus, in press