通过灰度硬掩模光刻在碳化硅中可扩展制备半球形固体浸没透镜
光学
2023-05-10 v1 量子物理
摘要
灰度光刻能够在与标准光刻完全兼容的工艺中创建具有空间可控高度的微米尺度特征。本文中，利用结合灰度光刻与硬掩模技术的新型制备方案，在碳化硅中演示了固体浸没透镜，可将半径5 m的近半球形透镜刻蚀到衬底中。该技术高度可扩展且与CMOS技术兼容，器件纵横比可在抗蚀剂图形化后通过控制后续干法刻蚀的化学反应来调节。这些结果为聚焦离子束铣削提供了一种低成本、高通量且具工业相关性的替代方案，用于制造高纵横比的圆角微结构。
引用
@article{arxiv.2301.07705,
title = {Scalable fabrication of hemispherical solid immersion lenses in silicon carbide through grayscale hard-mask lithography},
author = {Christiaan Bekker and Muhammad Junaid Arshad and Pasquale Cilibrizzi and Charalampos Nikolatos and Peter Lomax and Graham S. Wood and Rebecca Cheung and Wolfgang Knolle and Neil Ross and Brian Gerardot and Cristian Bonato},
journal= {arXiv preprint arXiv:2301.07705},
year = {2023}
}
备注
9 pages, 4 + 2 supplementary figures