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量子线中粗糙度散射诱导的绝缘体-金属-绝缘体转变

介观与纳米尺度物理 2018-01-17 v4

摘要

我们从理论上研究了当电子填充一个或多个子带时,界面粗糙度散射对量子线中电子低温迁移率的影响。我们发现,长度为 L\mathcal{L} 的量子线的 Drude 电导首先随着电子线浓度 η\eta 的增加而增加,然后在更高浓度下减小。对于长度为 L\mathcal{L} 的小半径 RR 的量子线,电导峰值 GmaxG_{max} 低于 e2/he^2/h,因此电子是局域化的。该峰值的高度随 RR 的大幂次增长,因此在大的 RR 下,电导 GmaxG_{max} 超过 e2/he^2/h,并在峰值周围打开一个具有退局域态(我们称之为金属窗口)的浓度窗口。因此,我们预测对于足够大的 RR,随着浓度的增加会发生绝缘体-金属-绝缘体转变。此外,我们证明金属域可以细分为三个更小的域:1) 单子带弹道导体,2) 多子带弹道导体,3) 扩散金属,并利用我们的结果估计这些域中的电导。最后,我们估计了对于给定长度 L\mathcal{L} 打开金属窗口的临界值 Rc(L)R_c(\mathcal{L}),并发现它与实验相当吻合。

关键词

引用

@article{arxiv.1705.07501,
  title  = {Roughness scattering induced insulator-metal-insulator transition in a quantum wire},
  author = {Han Fu and M. Sammon and B. I. Shklovskii},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1705.07501},
  year   = {2018}
}