螺旋高阶拓扑绝缘体中的RKKY相互作用
介观与纳米尺度物理
2025-05-22 v1
摘要
我们从理论上研究了螺旋高阶拓扑绝缘体(HOTIs)中的RKKY相互作用,揭示了由夹臂和 Dirac 型bulk载流子所中介的不同行为。我们的发现表明,夹臂中介的相互作用包含 Heisenberg、Ising 和戴维森-莫里亚(DM)项,随着杂质间距 z 的衰减并随费米能 {\epsilon}F 的振荡。这些相互作用在Heisenberg和Ising项中表现出铁磁行为,而DM项则表现出交替行为。相比之下,bulk中介的相互作用包括Heisenberg、扭转Ising和DM项,具有传统的立方振荡衰减。本研究突显了HOTIs中夹臂和bulk RKKY相互作用之间的细致的相互作用,为基于HOTIs的下一代量子器件设计提供了洞见。
引用
@article{arxiv.2406.10243,
title = {RKKY interaction in helical higher-order topological insulators},
author = {Sha Jin and Jian Li and Qing-Xu Li and Jia-Ji Zhu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2406.10243},
year = {2025}
}
备注
8 pages, 5 figures